2014年1月13日 星期一

專利侵害鑑定的基本原則—從一件隱形眼鏡藥水專利侵害案件談起

前言

在專利侵害民事訴訟中,被告之行為是否構成專利侵害,通常需要專利侵害鑑定機構依一定之程序完成侵害鑑定報告,法院參酌該報告後再作成判決。然鑑定機關或法院應依如何的程序進行鑑定?法院和鑑定機關是否會有見解不同的可能?是否一切見解皆應以法院的見解為準?最後案件應如何處理才妥當?此等問題均可能在實務案件中發生。本文將藉著一件隱形眼鏡藥水專利侵害案件的案例事實,突顯這類問題的爭議,並討論專利侵害鑑定的基本流程,以期各界重視專利侵害案件可能引發的問題。


案例事實

原告A公司為美商公司,擁有遲延雙氧水(過氧化氫)釋放功能的隱形眼鏡清潔消毒劑的a發明專利,其主張台灣廠商B公司製售的隱形眼鏡清潔消毒劑侵害其專利,對B公司提起專利侵害訴訟。原告A公司在第一審獲得勝訴判決,B公司不服提起上訴,高等法院仍然維持地方法院的判決結論,駁回B公司的上訴(參見高等法院91年度國貿上字第2號判決)。其後最高法院亦維持原判。

B公司在訴訟中,曾經主張其產品是依其申請取得的b專利製造而成,屬於合法行使專利權之行為。然因b專利在訴訟中經A公司提起舉發撤銷成功,該判決表示,「….A公司主張B公司製造銷售之「藥片式雙氧二合一隱形眼鏡清潔、消毒劑」產品所實施發明b專利侵犯A公司之a專利,經經濟部智慧財產權局撤銷B公司b專利權乙節,業據提出經濟部智慧財產權局九十年十 一月五日 專利舉發審定書為證….」及「….B公司抗辯……前開舉發未必即得推論伊系爭產品即構成A公司專利權之侵害云云,尚非可採。….

此外,針對該訴訟案之專利侵害鑑定報告,高等法院表示,「雖中央研究院之鑑定報告就B公司之專利是否侵害A公司之專利作成鑑定結論如下:B公司之中華民國b發明專利「待鑑定案」之申請專利範圍比中華民國a發明專利「本專利案」之申請專利範圍廣。按既然B公司之專利包含A公司之專利,顯然已侵犯後者之專利,蓋因A公司之專利在先,自不容較後之另一專利申請人抄襲前專利之任何部份。換言之,只要涉及專利之抄襲,不管是全部或一部抄襲,範圍大過原有專利或小於原有專利,均構成專利之侵害。……「茲因中央研究院化學所誤解本件專利之保護範圍而作「B公司之中華民國b發明專利『待鑑定案』之申請專利範圍比中華民國a發明專利『本專利案』之申請專利範廣之結論,而對於是否侵害專利則漏未論列。」

鑑定機關之鑑定報告雖表示B公司的隱形眼鏡保養系列「待鑑定物品」未落入a專利之申請專利範圍,但高等法院對鑑定機關的此部分鑑定內容則予以更正,謂:「惟查中央研究院化學所誤會A公司之專利只是以外覆膜延滯酵素之破壞功能,而忽略了前述『一步法』才是專利之重點,亦即將『一步法』中所舉覆膜中和錠例示,認定為專利之唯一部份,肇致論斷:『這顯示當過氧化氫接觸至酵素時,被分解成水和氧氣時,是從事不同之釋放機制。其中『本專利案』物品錠劑符合以外覆膜為延滯劑之功能,但『待鑑定物品』則顯然不同』,故上開鑑定結論,自非可採。」

專利侵害鑑定的流程

專利法關於專利侵害之行為態樣,可參考專利權內容的規定。專利法第56條規定,「物品專利權人,除本法另有規定者外,專有排除他人未經其同意而製造、為販賣之要約、販賣、使用或為上述目的而進口該物品之權」。由此可知,專利權人可排除的是他人製造或販賣專利物品等行為。故在物品專利權的侵權爭議中判斷是否構成專利侵害,自必須以行為人所製造或販賣之專利產品與主張專利權人之專利相互比對。絶不是以兩造當事人的專利相互比對。此等原則亦不因新舊專利法內容不同而有不同。

此等專利侵害鑑定原則,在智慧財產局民國851月所制定(智慧局於 民國93105公告停止適用)的「專利侵害鑑定基準」第四章(專利侵害的定義與法律特徵)第一節、第二節,以及第十一章(鑑定比對、作業流程及報告撰寫)第一節即有清楚的描述。司法院於民國9311月發文予各法院的「專利侵害鑑定要點」,其下篇的第二章(鑑定流程),第一節(鑑定流程概述)之二即說明,比對解釋後之申請專利範圍與待鑑定對象包括下列步驟:(一)解析申請專利範圍之技術特徵;(二)解析待鑑定對象之技術內容;(三)基於全要件原則(all-elements rule / all-limitations rule),判斷待鑑定對象是否符合「文義讀取」;(四)基於全要件原則,判斷待鑑定對象是否適用「均等論」。此等說明更明白揭示,專利侵害鑑定是在判斷被告的待鑑定對象的技術特徵是否落入原告的申請專利範圍。

「專利侵害鑑定要點」下篇的第三章(鑑定方法)之一謂:「解釋申請專利範圍之目的在正確解釋申請專利範圍之文字意義(下稱文義),以合理界定專利權範圍」。同該要點第三章之四:「發明(或新型)專利權範圍,以說明書所載之申請專利範圍為準,於解釋申請專利範圍時,並得審酌發明(或新型)說明及圖式」。由此可知,欲界定原告專利權範圍必須妥當解釋原告的申請專利範圍,而解釋申請專利範圍應以其文字意義為解釋的基礎。必要時得審酌申請案的說明及圖式。至於原告依其專利所製造的產品,則並非專利侵害鑑定所須審酌的對象。

案例評釋

一、專利侵害鑑定不涉及兩造專利的比對

前述高等法院判決表示,「B公司製造銷售之「藥片式雙氧二合一隱形眼鏡清潔、消毒劑」產品所實施發明b專利侵犯A公司之a專利,經經濟部智慧財產權局撤銷B公司b專利權乙節,業據提出經濟部智慧財產權局 九十年十一月五日 專利舉發審定書為證」。然而,專利舉發審定書僅涉及被舉發專利是否符合專利要件,並不涉及專利侵害之爭點。專利侵害鑑定是判斷待鑑定物是否落入原告的專利申請範圍,專利舉發審定書純係以被舉發專利為對象,審酌是否具有專利要件,並不會以待鑑定物為審酌對象。判決認定專利舉發審定書可證明b專利侵犯(害)A公司之a專利,實與專利侵害鑑定應有的流程不符。

最高法院九十年度台上字第七二九號民事判決理由,於類似之案情亦謂:「…. 末查上訴人公司又於原審主張:伊就廖國龍(即被上訴人公司)申請新型專利所提起行政救濟,雖經標準局審定異議不成立,伊不服而提起訴願、再訴願及行政訴訟,亦遭經濟部、行政院及行政法院駁回確定,惟前四者均係判斷廖國龍申請之新型是否符合新型專利之要件,即判斷專利之「有效性」,而非判斷新型專利之「侵害性」問題,與廖國龍等是否侵害伊之新型專利無涉,不宜作為本件之憑據….」。此判決適足以彰顯前揭高等法院之理由不合專利法之原則。

二、專利中含有他人專利的部分技術特徵並不構成專利侵害

專利侵害鑑定是判斷待鑑定物是否落入原告的專利申請範圍中,鑑定機關理當應以此為焦點進行鑑定。前述案件鑑定機關所提出之鑑定報告,則包含對A公司a專利,與B公司b專利相互比對兩者範圍大小的工作,此等比對與該侵權案件之專利侵害鑑定並無關聯。鑑定機關完成此工作不僅多餘,亦有誤導之虞。

果然,高等法院認為,「既然B公司之專利包含A公司之專利,顯然已侵犯後者之專利,蓋因A公司之專利在先,自不容較後之另一專利申請人抄襲前專利之任何部份。換言之,只要涉及專利之抄襲,不管是全部或一部抄襲,範圍大過原有專利或小於原有專利,均構成專利之侵害」。此等認定專利侵害的原則,實無任何依據。蓋如前所述,專利與專利間若有衝突,至多涉及其中之一專利是否應當遭舉發撤銷的問題,並不致涉及專利侵害的問題。再參酌「專利侵害鑑定要點」下篇的第二章(鑑定流程),第一節(鑑定流程概述)之三謂,「全要件原則」係指請求項中每一技術特徵對應表現(express)在待鑑定對象中,包括文義的表現及均等的表現。即使在判斷待鑑定物的技術特徵是否落入申請專利範圍時,也必須申請專利範圍請求項中每一技術特徵對應表現(express)在待鑑定對象中,如果待鑑定對象僅有一部分技術特徵與原告之申請專利範圍某特徵相同,亦不當然構成專利侵害。無論如何,都不應當會有「只要涉及專利之抄襲,不管是全部或一部抄襲,範圍大過原有專利或小於原有專利,均構成專利之侵害」的結論。高等法院的結論似乎與文字著作的著作權侵害案件中,抄襲一部分即構成著作權侵害的法理較相近,然其用於專利侵害案件自有違誤。

最高法院八十九年度台上字第一三七二號民事判決理由謂:「….Claim(即申請專利範圍)應記載創作必要構成要件之全部。故在Claim 內記載複數要件時,不得就複數要件其中之一,主張獨立的技術範圍。亦即,不得僅因被查扣物品與系爭專利權之複數構成要件任一項相同,即認為成立仿造行為….」。此理由亦足以指正前揭高等法院之理由。

三、解讀原告專利之技術特徵應以申請專利範圍的文字意義為基礎,並以全要件原則判斷待鑑定物之技術特徵是否落入申請專利範圍

高等法院在審理過程中,對鑑定機關認定B公司的待鑑定物未落入a專利之申請專利範圍,表示鑑定機關係對A公司的a專利有所誤解,「忽略了『一步法』才是專利之重點,亦即將『一步法』中所舉覆膜中和錠例示,認定為專利之唯一部份,肇致論斷:『這顯示當過氧化氫接觸至酵素時,被分解成水和氧氣時,是從事不同之釋放機制。其中『本專利案』物品錠劑符合以外覆膜為延滯劑之功能,但『待鑑定物品』則顯然不同』,故上開鑑定結論,自非可採」。

然而,A公司的申請專利範圍強調,係「一以聚合塗覆型式存在之保覆住催化劑之阻滯劑,此阻滯會於一酸或中和介質中徐徐溶解,以使得上述H2O2分解延緩一段預定時間,而可將隱形眼鏡消毒」。所以A公司專利係以包膜型式存在的錠劑,以包膜作為延滯劑,要等包膜在雙氧水中崩解後,錠劑內部的成分才會開始和雙氧水作用。而B公司的待鑑定物則採用「打裸錠劑」,並沒有此等包膜,其錠劑無需包膜即具有同樣的緩釋功能。若依全要件原則,此部分技術特徵不同,待鑑定物理當未落入a專利之申請專利範圍,高等法院之見解與專利侵害鑑定的法則即有未合。而B公司的待鑑定物達到此功能的方法亦與a專利不同,亦理當無從依均等論認定B公司的待鑑定物落入a專利之申請專利範圍。

鑑定機關原是依據「全要件原則」,以待鑑定物並無a專利中「以聚合塗覆型式存在之保覆住催化劑之阻滯劑」的技術特徵,因而認定待鑑定物未落入a專利之申請專利範圍。然高等法院似乎不熟悉「全要件原則」,而認為鑑定機關係認為有覆膜(包膜)的特徵是專利的唯一部分,才會在此特徵不符合時,即認定待鑑定物未落入a專利之申請專利範圍,此由判決理由認為鑑定機關「忽略了『一步法』才是專利之重點,亦即將『一步法』中所舉覆膜中和錠例示,認定為專利之唯一部份,肇致論斷:….」,即可推知高等法院之此等認知背景

結語

專利侵害鑑定要點下篇(專利侵害之鑑定原則)之壹(發明專利侵之鑑定原則)第一章謂:「本發明(包含新型)專利侵害鑑定原則僅供法院或侵害專利鑑定專業機構等參考,而非用來拘束上述機關或機構」。如果現今有法院基於上述高等法院的見解作成其他專利侵害案件的判決,儘管上述高等法院的見解違反「專利侵害鑑定要點」,法院是否可以認為「專利侵害鑑定要點」僅供參考,不能拘束法院的見解?

依我國民事訴訟法第468條規定,判決不適用法規或適用不當者,為違背法令。然違背法令並不以違背成文法為限。如果判決違背成文法以外的法則,例如論理法則、經驗法則,仍應認為違背法令。而所謂「論理法則」是指依立法意旨或法規的社會機能就法律事實所為價值判斷的法則而言。「經驗法則」是指由社會生活累積的經驗歸納所得的法則;凡是日常生活所得的通常經驗及基於專門知識所的的特別經驗均屬之(參考最高法院793679年度第一次民事庭會議)。「專利侵害鑑定要點」(乃至於過去的「專利侵害鑑定基準」),均屬於古今中外專利法領域所累積的知識經驗及判斷原則,應認為屬於專利法領域的論理法則及經驗法則。法院判決之理由如有違背「專利侵害鑑定要點」,應可認為違背論理法則及經驗法則,屬於得以上訴第三審的理由。「專利侵害鑑定要點」中,所謂「僅供法院或侵害專利鑑定專業機構等參考,而非用來拘束上述機關或機構」,應係指在法規的地位或形式效力上,不足以拘束各機關。但就實質的論理邏輯,各機關仍應遵循。除非各機關另有堅強的論理基礎才能不予遵循,惟必須說明其不予遵循的理由。

專利侵害案件涉及專利法、專利法相關專業法則及專利相關技術,接受傳統法律訓練的法律人未必能勝任此種案件的審理工作。近來司法院著手成立智慧財產法院,加強法官有關智慧財產權的專業知識,期待未來我國的專利侵害案件的審理過程,是由法官與兩造在專利法的論理法則下相互澄清案件爭點,尋求妥適的結論,而不再產生當事人與法官,各自在自己認知的法則下,作出具有爭議的判決。

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